Ferrosilicium met laag koolstofgehalte

De bestaande productiemethode voor speciaal ferrosilicium of ferrosilicium met hoge zuiverheid is het injecteren van gesmolten ferrosilicium in de verdeelbak en vervolgens het introduceren van chloor in de verdeelbak om de koolstof in ferrosilicium te reduceren tot minder dan 0.{{3} }4%, titanium tot 0.03-0.05% en calcium tot 0.05-0.07% als gevolg van de reactie van chloor met koolstof, titanium, calcium en andere onzuiverheden. Dit ferrosilicium kan echter niet worden gebruikt voor de productie van hoogwaardig niet-georiënteerd siliciumstaal, omdat koolstof een van de belangrijkste onzuiverheden is die de elektromagnetische eigenschappen van koudgewalste niet-georiënteerde siliciumstaalplaten beïnvloedt. Als het koolstofgehalte te hoog is, is het bij de productie van siliciumstaalplaten, om het koolstofgehalte in het siliciumstaal te verminderen, noodzakelijk om de eenheidssnelheid in het daaropvolgende ontkolingsproces van de vacuümoven te vertragen en het ontkolingsgloeien te verlengen. waardoor de productiekosten stijgen en de economische voordelen worden aangetast. Daarom geldt: hoe lager het koolstofgehalte in Low C FeSi, hoe beter.